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產(chǎn)品展示
  • AlignMeter激光準(zhǔn)直儀
    AlignMeter激光準(zhǔn)直儀 通用性:可測(cè)量光束位置(直徑高達(dá)9mm)、角度(高達(dá)180mRad)和功率(無濾波片10µW-5mW) 精確度:低至0.1µm分辨率@50Hz數(shù)字濾波器,位置測(cè)量:±15µm和低至0.005µm分辨率,角度測(cè)量:±0.125mRad
    更新日期:2024-11-14型號(hào):廠商性質(zhì):代理商瀏覽量:647
  • 線光源測(cè)試設(shè)備
    線光源測(cè)試設(shè)備 線激光測(cè)試系統(tǒng)(LLPS)是一個(gè)用于分析長度高達(dá)200mm和寬度為55μm的線激光器解決方案。通過使用50/200mm線性位移臺(tái),搭載DataRay的旗艦WinCamD-LCM4光束分析儀,這款功能完備、開放式軟件的設(shè)備將顯示出激光線強(qiáng)度分布的完整圖像,以及垂直質(zhì)心圖、線寬圖和其他一些有用的測(cè)量結(jié)果。
    更新日期:2024-11-14型號(hào):廠商性質(zhì):代理商瀏覽量:588
  • 大尺寸光斑分析儀-200mm
    大尺寸光斑分析儀-200mm 大尺寸光斑分析儀,檢測(cè)200mm成像區(qū)域,成套系統(tǒng)包含:WinCamD-LCM CMOS光斑分析儀,成像透鏡,透射式屏幕組件。
    更新日期:2024-11-14型號(hào):廠商性質(zhì):代理商瀏覽量:632
  • dataray
    dataray提供靈活的M2測(cè)試配套儀器,可按照客戶的激光參數(shù)選擇50mm或則200mm行程的掃描移位臺(tái),可搭載他們?nèi)盗械墓獍叻治霎a(chǎn)品/Beam R2組合而成M2分析儀。位移臺(tái)搭載BeamR2掃描刀口分析儀。
    更新日期:2024-11-14型號(hào):廠商性質(zhì):代理商瀏覽量:736
  • BeamMap2 XYZΘΦ 掃描狹縫光斑分析儀
    BeamMap2 XYZΘΦ 掃描狹縫光斑分析儀 DataRay的BeamMap2代表了一種*不同的實(shí)時(shí)光束輪廓分析方法。它允許在光束行進(jìn)的多個(gè)位置進(jìn)行測(cè)量,從而擴(kuò)展了Beam'R2的測(cè)量功能。這種實(shí)時(shí)狹縫掃描系統(tǒng)在旋轉(zhuǎn)的圓盤上的多個(gè)z平面中使用XY狹縫對(duì),以同時(shí)在四個(gè)不同的z位置測(cè)量四個(gè)光束輪廓。 BeamMap2*的zhuan利設(shè)計(jì)對(duì)于實(shí)時(shí)測(cè)量焦點(diǎn)位置,M2,光束發(fā)散和指向zui為便利。
    更新日期:2024-11-14型號(hào):廠商性質(zhì):代理商瀏覽量:925
  • Beam’R2 XY 掃描狹縫光斑分析儀
    Beam’R2 XY 掃描狹縫光斑分析儀 DataRay的Beam'R2非常適合許多激光光束輪廓分析應(yīng)用。利用標(biāo)準(zhǔn)的2.5μm狹縫和較大的刀口狹縫,Beam'R2能夠測(cè)量直徑小至2μm的光束。利用Si和InGaAs或擴(kuò)展InGaAs的選件,Beam'R2可以對(duì)190 nm至2500 nm的光束進(jìn)行輪廓分析。掃描狹縫光斑分析儀提供比基于相機(jī)的系統(tǒng)更高的分辨率
    更新日期:2024-11-14型號(hào):廠商性質(zhì):代理商瀏覽量:535
  • TaperCamD-LCM大尺寸CMOS光束分析儀 25mm
    TaperCamD-LCM大尺寸CMOS光束分析儀 25mm TaperCamD-LCM具有25 x 25 mm的大有效面積,4.2 M像素,12.5 x 12.5μm(有效)像素,光學(xué)和電子觸發(fā)全局快門以及2500:1的SNR,可提供最da的有源傳感器面積。
    更新日期:2024-11-14型號(hào):廠商性質(zhì):代理商瀏覽量:547
  • BladeCam-HR/XHR 0.5英寸 CMOS 光斑分析儀
    BladeCam-HR/XHR 0.5英寸 CMOS 光斑分析儀 高分辨率和高度緊湊的BladeCam™光束輪廓儀的像素尺寸為3.2μm,厚度僅為0.65英寸(16.5毫米),可集成到光學(xué)系統(tǒng)和OEM應(yīng)用中。軟件功能齊全,可高度定制,且不收取許可費(fèi)用,無限制安裝和免費(fèi)軟件更新。非常適合以下應(yīng)用:CW激光輪廓分析;激光系統(tǒng)的現(xiàn)場服務(wù);光學(xué)組件儀器對(duì)準(zhǔn);光束漂移和記錄;研發(fā); OEM集成;質(zhì)量控制;和
    更新日期:2024-11-14型號(hào):廠商性質(zhì):代理商瀏覽量:532
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